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第709章:中国光刻机的希望

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会,陈宇只听到干式,湿式什么的。

“张总,那个林本艰说的干式和湿式是什么意思?”

“说的是生产光刻机的一种技术工艺,目前我们大部分普遍用的是干式光刻机生产工艺。也就是用空气做为镜头与晶圆间的介质,让光罩上的图形在晶圆上成象。不过,这个林本艰觉得,还可以用一种湿式工艺。”

“什么是湿式?”

“他说的这个湿式名字叫做浸润式,与湿式差不多。但用的介质却不一样,我们一般现在用的是空气,而林本艰提成了用水做为浸润式的介质。”

“水?”

听到水这个词,陈宇陈宇有些激动。

记得前世,其实在开始之初,荷兰aslm与德国,与日本几大光刻机公司实力都差不多。

为什么后来aslm却是一统天下,完全与这一些光刻机公司选择的路线有关。

当时日本,德国,包括美国这一些光刻机公司路线选择出错。

而aslm却是花重金开辟了另一条光刻机生产工艺。

这个工艺,就涉及到水,也就是林本艰现在提到的浸润式。

“您觉得他的这个工艺有没有前途?”

陈宇不是很懂技术,但却知道,这是决定未来光刻机命运的时刻。

在前世2008年之后,全球90%以上生产出来的芯片,用的都是林本艰所提出来的湿式光刻工艺。并且,也正因为林本艰提出了这个湿式工艺,这才将芯片从190纳米,一路做到了130纳米,90纳米,65纳米,40纳米,28纳米,20纳米,16纳米,10纳米,7纳米,和5纳米。甚至,连最为尖端的3纳米,采用的都是林本艰的湿式光刻技术。

“这个,说不准,理论上有可能,但里面还存在着一系列要解决的问题。比如,水会不会产生汽泡,水会不会污染设备,要怎么做防水,水遇热会膨胀,折射率会改变,这又怎么解决……”

张如京向陈宇述说着这一个湿式光刻工艺所面对的问题。

只是,这个时候,陈宇的眼睛已经盯紧了林本艰。

他知道。

未来若干年之后,这一切的问题都不会成为问题。

如果抓住这个林本艰,那么,中国光刻机就有希望了。

(本章完)



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